Sensitive gel za čišćenje lica

3.360,00 RSD

Šifra proizvoda: 21-013 Kategorija: Oznake: , Brend:

Gel za čišćenje lica posebno formulisan za osetljivu kožu i područje oko očiju.

Efikasno uklanja nečistoće i šminku, istovremeno štiteći kožu od štetnih faktora okoline i zagađenja vazduha.

Na zalihama

Sensitive gel za čišćenje lica
Sensitive gel za čišćenje lica - Slika 2

Efikasno uklanja prljavštinu i šminku, istovremeno štiteći kožu od štetnih faktora okoline i zagađenja vazduha. Sadrži maslinovo ulje koje je obogaćeno Osmopurom kao komponentom za čišćenje. Štiti ćelije kože od štetnih atmosferskih zagađivača. Sinergija maslinovog ulja sa hijaluronskom kiselinom hidrira kožu, ostavljajući je mekom i elastičnom.

Nanesite malu količinu na celo lice kružnim pokretima i uklonite vlažnim pamučnim tuferom.

  • Arginin (L-arginin) – L-arginin je poluesencijalna aminokiselina koja poboljšava cirkulaciju krvi, ubrzava zarastanje rana, poboljšava sagorevanje viška masti i podržava proizvodnju kolagena.
  • MMV hijaluronska kiselina
  • Maslinovo ulje – Maslinovo ulje bogato je antioksidansima, kao što su vitamin E, vitamin K i polifenoli koji štite kožu od prevremenog starenja. Takođe sadrži elemente u tragovima poput natrijuma i kalijuma koji regulišu ćelijski osmotski pritisak i prenos hranljivih materija.
  • Osmopur – Ekstrakt bršljana, heliotropa i pirinčanih mekinja štiti ćelije od toksičnih uticaja okoline, atmosferskog zagađenja i štetnih efekata duvana, sumpor-dioksida i teških metala. Fenolna kiselina sadržana u prve dve biljke, u sinergiji sa pirinčanom fitinskom kiselinom, pruža odličnu zaštitu kože.

Molekularna težina prirodne hijaluronske kiseline koja se nalazi u ljudskoj koži kreće se od 4 kDa do 8.000 kDa. Kada se koristi u kozmetičkim formulacijama, u zavisnosti od njene molekulske težine i veličine, nudi različita svojstva i dejstva.

  1. HMW HIJALURONSKA KISELINA (VISOKA): 1.800-2.200 kDa. Formiranje filma, smanjenje transdermalnog gubitka vode i povećanje rezervi vode. Efekat zaglađivanja i sjaj.
  2. MMW HIJALURONSKA KISELINA (SREDNJA): 1.300-1.800 kDa. Nudi dugoročnu hidrataciju, zaštitu od nepovoljnih uslova okoline i poboljšanu teksturu kože.
  3. MMW HIJALURONSKA KISELINA (NISKA): 400-1300 kDa. Nudi trenutnu hidrataciju, UV zaštitu i regulaciju viška masnoće.
  4. ELMW HIJALURONSKA KISELINA (EKSTRA NISKA): 200-400 kDa. Dubinska hidratacija. Nosilac aktivnih supstanci.
  5. XSMW HIJALURONSKA KISELINA (EKSTRA MALA): 30-60 kDa. Perkutana apsorpcija koja hrani kožu, povećava hidrataciju i smanjuje gubitak vode. Poboljšava elastičnost i pomaže u smanjenju bora.
  6. MINI HIJALURONSKA KISELINA: 3-10 kDa. Prodire u kožu, popravljajući ćelijska oštećenja. Nudi dubinsku hidrataciju i anti-ejdžing. Deluje protiv slobodnih radikala izazvanih UV zračenjem i usporava proces starenja. Jača kožnu barijeru i poboljšava njenu elastičnost.

AQUA, OLIVE OIL PEG-7 ESTERS, GLYCERIN, SUCROSE LAURATE, PPG-26-BUTETH-26, ALCOHOL, PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL, PHENOXYETHANOL, ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, ARGININE, PARFUM, CAPRYLYL GLYCOL, SODIUM PCA, ETHYLHEXYLGLYCERIN, DISODIUM EDTA, GLYCERYL POLYACRYLATE, PEG-8, BUTYLENE GLYCOL, HELIANTHUS ANNUUS SEED EXTRACT, PPG-1-PEG-9 LAURYL GLYCOL ETHER, HEDERA HELIX LEAF/STEM EXTRACT, SODIUM HYALURONATE, CARBOMER, PHYTIC ACID

* Spisak sastojaka se može promeniti. Preporučuje se da uvek proverite spisak sastojaka na pakovanju proizvoda.

Dodatne informacije

Pakovanje

Brand

Kategorija

Nega lica
Linije

Namena

Problem

Čišćenje, Hidratacija, Masnoća, Nega očiju, Osetljiva koža/crvenilo, Umirenje
Tekstura

Tip kože

Kombinovana koža, Masna koža, Normalna koža, Osetljiva koža, Suva koža
Vrsta proizvoda

Zemlja porekla

Recenzije

Još nema komentara.

Samo prijavljeni korisnici koji su kupili ovaj proizvod mogu ostaviti komentar.

Povezani proizvodi